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Please use this identifier to cite or link to this item: http://dx.doi.org/10.25673/4786
Title: Untersuchungen zum Dotieren von Silicium aus einer Oberflächenbelegung mit Phosphor in einem Kurzzeitprozess
Other Titles: Rapid thermal doping of silicon from a phosphorus surface layer
Author(s): Kalkofen, Bodo
Granting Institution: Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg
Issue Date: 2007
Extent: Online-Ressource (PDF-Datei: 176 S., 3289 KB)
Type: Hochschulschrift
Language: German
Publisher: Universitätsbibliothek
Otto von Guericke University Library, Magdeburg, Germany
URN: urn:nbn:de:101:1-201010181765
Subjects: Hochschulschrift
Online-Publikation
URI: https://opendata.uni-halle.de//handle/1981185920/10828
http://dx.doi.org/10.25673/4786
Open access: Open access publication
Appears in Collections:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik

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