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http://dx.doi.org/10.25673/4460| Titel: | Plasma-assisted atomic layer deposition for microelectronics applications |
| Autor(en): | Amusan, Akinwumi Abimbola |
| Gutachter: | Burte, Edmund P. Edelmann, Frank T. |
| Körperschaft: | Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg |
| Erscheinungsdatum: | 2016 |
| Umfang: | 1 Online-Ressource (PDF-Datei: xviii, 170 Blätter, 28,64 MB) |
| Typ: | Hochschulschrift |
| Art: | Dissertation |
| Sprache: | Englisch |
| Herausgeber: | Otto von Guericke University Library, Magdeburg, Germany |
| URN: | urn:nbn:de:gbv:ma9:1-8379 |
| URI: | https://opendata.uni-halle.de//handle/1981185920/12174 http://dx.doi.org/10.25673/4460 |
| Open-Access: |  Open-Access-Publikation |
| Enthalten in den Sammlungen: | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
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| Datei | Beschreibung | Größe | Format | |
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