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dc.contributor.authorWardenberg, Laurids-
dc.contributor.authorKühling, André-
dc.contributor.authorSchilling, Jörg-
dc.date.accessioned2025-06-24T15:21:12Z-
dc.date.available2025-06-24T15:21:12Z-
dc.date.issued2025-
dc.identifier.urihttps://opendata.uni-halle.de//handle/1981185920/121252-
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.25673/119294-
dc.language.isoeng-
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/-
dc.subject.ddc620-
dc.titleOptical second- and third-order nonlinearities in plasma-enhanced chemical vapor deposition-grown silicon oxides and silicon nitrideseng
dc.typeArticle-
local.versionTypepublishedVersion-
local.bibliographicCitation.journaltitleAdvanced photonics research-
local.bibliographicCitation.volume6-
local.bibliographicCitation.issue5-
local.bibliographicCitation.pagestart1-
local.bibliographicCitation.pageend8-
local.bibliographicCitation.publishernameWiley-VCH-
local.bibliographicCitation.publisherplaceWeinheim-
local.bibliographicCitation.doi10.1002/adpr.202400142-
local.openaccesstrue-
dc.identifier.ppn1914458761-
cbs.publication.displayform2025-
local.bibliographicCitation.year2025-
cbs.sru.importDate2025-06-24T15:18:40Z-
local.bibliographicCitationEnthalten in Advanced photonics research - Weinheim : Wiley-VCH, 2020-
local.accessrights.dnbfree-
Enthalten in den Sammlungen:Open Access Publikationen der MLU

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