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http://dx.doi.org/10.25673/119294| Titel: | Optical second- and third-order nonlinearities in plasma-enhanced chemical vapor deposition-grown silicon oxides and silicon nitrides |
| Autor(en): | Wardenberg, Laurids Kühling, André Schilling, Jörg  |
| Erscheinungsdatum: | 2025 |
| Art: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| URI: | https://opendata.uni-halle.de//handle/1981185920/121252 http://dx.doi.org/10.25673/119294 |
| Open-Access: |  Open-Access-Publikation |
| Nutzungslizenz: |  (CC BY 4.0) Creative Commons Namensnennung 4.0 International |
| Journal Titel: | Advanced photonics research |
| Verlag: | Wiley-VCH |
| Verlagsort: | Weinheim |
| Band: | 6 |
| Heft: | 5 |
| Originalveröffentlichung: | 10.1002/adpr.202400142 |
| Seitenanfang: | 1 |
| Seitenende: | 8 |
| Enthalten in den Sammlungen: | Open Access Publikationen der MLU |
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