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Please use this identifier to cite or link to this item: http://dx.doi.org/10.25673/511
Title: Fabrication and thermoelectric characterization of nanostructured Silicon
Author(s): Boor, Johannes, de
Advisor(s): Leipner, Hartmut, Dr.
Nielsch, Kornelius, Prof. Dr.
Völklein, Friedemann, Prof. Dr.
Granting Institution: Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg
Issue Date: 2011
Extent: Online-Ressource (X, 104, L S. = 10,26 mb)
Type: Hochschulschrift
Exam Date: 08.06.2011
Language: English
Publisher: Universitäts- und Landesbibliothek Sachsen-Anhalt
URN: urn:nbn:de:gbv:3:4-5657
Subjects: Thermoelektrizität
Silicium
Nanodraht
Online-Publikation
Hochschulschrift
Abstract: Diese Dissertation setzt sich aus einer Einführung in das Gebiet der Thermoelektrik sowie 3 weiteren Kapiteln zusammen, welche jeweils einen Aspekt von nanostrukturiertem Silicium im Hinblick auf eine mögliche Verwendung als thermoelektrisches Materials untersuchen. In Kapitel 2 wird die Herstellung einkristalliner und homogener Silicium Nanodrahtfelder unter Verwendung von Laserinterferenzlithografie und nasschemischen Ätzen gezeigt. Mit den verwendeten Methoden konnten Drähte mit Durchmessern bis zu 65 nm großflächig hergestellt werden. In Kapitel 3 wird eine Messmethode zur vollständigen Charakterisierung von thermoelektrischen Materialien vorgestellt. Diese im Rahmen der Arbeit entwickelte Messmethode erlaubt die quasi-gleichzeitige Messung der elektrischen und der thermischen Leitfähigkeit sowie des Seebeckkoeffizienten und ther thermoelektrischen Gütezahl. In Kapitel 4 werden die thermoelektrischen Eigenschaften von porösem Silicium untersucht. Messungen der elektrischen und thermischen Leitfähigkeit sowie der Gütezahl zeigen, dass es möglich ist, die thermoelektrischen Eigenschaften gegenüber Bulk-Silicium zu verbessern.
URI: https://opendata.uni-halle.de//handle/1981185920/7153
http://dx.doi.org/10.25673/511
Open access: Open access publication
Appears in Collections:Physik

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